Stabilife®滤光片及元件的生产主要采用两种具有专利的工艺--反应离子镀膜技术(RIP)及混合等离子沉积技术(HPD)，而沉积形成金属氧化物光学薄膜层。这两种工艺都可以做出致密度及硬度极高的光学薄膜层，并且和基底材料紧密结合、具有很好的耐刮擦性能。我们的Stabilife®镀膜技术是由富兰克林的原Corion镀膜工厂独家研发的，并且广泛的用于生产中。

光谱稳定性

作为光学系统的重要组成部分，光学元件必须在任何操作环境下具有十分精确、可靠的光谱（波长/透过率）稳定性。针对普通的用途，软膜或普通的金属氧化物膜层或许可以适用。但是对于很多有要求的用途，如荧光检测等，波长的稳定性是绝对关键的性能，足以影响整个的测试结果。Stabilife®是针对这些高精度用途的解决方案。

膜层致密度与光谱稳定性

从光学镀膜工艺上说，膜层的致密度是影响光谱稳定性的一个关键因素。同类Stabilife®膜层的致密度相对普通的金属氧化物膜层而言，明显要大许多；因此Stabilife®膜层能够达到更高的技术、性能指标。从薄膜的结构上分析，普通的金属氧化物膜层中含有大量的微孔，这些微孔随使用环境的变化，会吸收或释放水蒸气，往往导致光谱波长的漂移。而这种膜层的渗透率将决定波长漂移的范围。普通金属氧化物膜层的波长漂移范围为2~5%。Stabilife®膜层由于具有很高的致密度，膜层内的微孔远少于普通的膜层，水蒸气对膜层的影响要小许多，因此我们的波长漂移范围< 0.02%。下列是Stabilife®滤光片（30nm窄带通滤光片）在0%及100%湿度环境下测量的透过率曲线，从下图基本看不出有任何变化。

由于膜层致密度的原因，Stabilife®膜层的光谱热稳定性比普通的金属氧化物膜层至少要好5到10倍。从机理上说，温度的转换会改变膜层中吸附于微孔内水汽的含量；比如当普通的金属氧化物膜层处于高温时，内部的水汽会析出膜层从而导致如前所述的波长漂移的情况。简而言之，高的膜层致密度会降低膜层的水汽渗透率，因此使用Stabilife®技术镀的膜层都具有最好的光谱稳定性，无论是带通滤光片、截止滤光片、二向色镜，还是偏振滤光片等等。后续的光谱曲线是Stabilife®技术同普通技术针对相同主波长及带宽的带通滤光片波长漂移的对比。

物化稳定性

在加工过程中、极端的原子辐射和光学辐照等苛刻 条件下，Stabilife®膜层都表现出极好的物理性能稳定性。例如目前使用在釜沉浸式核反应堆中监测系统上，Stabilife®的滤光片使用寿命超过8000小时；此外Stabilife®滤光片也通过了Telcordia GR-2883标准，广泛的用在光通讯设备上。当然我们也为很多其他普通的用途提供Stabilife®滤光片，同样具有这种卓越的理化性能。

Stabilife®的膜层牢固度测试，一般我们使用的标准是：MIL-C-48497；针对擦拭的标准是MIL-C-48497；耐湿性的测试，我们使用十分严格的标准MIL-STD-810E。Stabilife®滤光片无需保护措施和特殊要求，十分方便客户安装使用。

Stabilife®滤光片的用途

Stabilife®镀膜技术可以应用的光谱范围从准分子紫外的200nm到红外的3um，广泛的应用在下列的产品上

Stabilife®的膜系

普通膜系

特殊膜系

Stabilife®产品简介

窄带通滤光片

Stabilife®镀膜可以批量的生产200nm~2000nm波段的窄带通滤光片，由于这类滤光片膜层的特性，可以用在对环境或使用温度有要求的场合。可以根据客户的要求提供尺寸从2.5mm到390mm。

比较典型的用途为：实验室或医疗诊断仪器、比色系统及荧光检测设备等。

下图显示了Stabilife®膜层的特性如光谱的截止陡度和截止性能等指标，以供参考。

超窄带通滤光片

Stabilife®膜层的光谱稳定性正是生产超窄带通滤光片所需的一个十分关键的性能。在此类产品特别是带宽小于1nm的超窄带通并且对透过率具有很高要求的滤光片，生产过程中必须尽量控制膜层的光损耗，同时要求基板保持常温。超窄带通滤光片通常用在航天、航空、医疗诊断的便携设备，以及环境测试系统中。我们可提供最大250mm直径的滤光片。在下图中，介绍了Stabilife®超窄带通滤光片生产工艺中光谱陡度、背景深度，以及不同镀膜间隙的关系。

同传统工艺生产的紫外滤光片相对比，使用Stabilife®镀膜技术生产的同波段紫外滤光片具有极好的稳定性以及使用寿命，且可以在任何环境下进行工作。