光学复制是指在制造光学零件时,将光学面从母模(模具)上转移到 一个或多个工件上的工艺。而工件本身的表面无需精密加工,却能够继承母模精密加工后表面的各种特征。工件表面粗糙度可达0.5nm,或者根据光栅的应用;可以复制刻划3200线/mm的表面。
广义光学复制工艺包含多种形式:环氧树脂薄膜填充法、塑料模压法、渗镍成型法以及注塑成型法。根据用途的不同,各种工艺各有优势。相对而言,环氧树脂薄膜填充法是复制精度很高,又可以批量生产的一种工艺。高精度透射或反射光学元件都可以使用这个工艺生产。相对塑料模压法往往用在大批量、小口径的用途;注塑成型法在实际使用中,应用的领域较少,一般针对高精度产品的生产批量很小。渗镍成型法制成的光学件一般都用在高温的用途,而且对于大部分的用途而言,表面精度不高。
鉴于光学复制是一个种类繁多、应用面极广的技术种类,我们在此介绍的光学复制工艺仅指环氧树脂薄膜填充法生产的反射型光学元件。
|